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南京先進激光技術研究院 舉辦“光創(chuàng)薈”第三期大講堂
發(fā)布時間:2021-09-24瀏覽量:346

2021年9月22日下午,我院舉辦第三期“光創(chuàng)薈”大講堂,邀請了中科院上海光機所研究員、博士生導師曾愛軍博士主講,題目是“從深紫外投影光刻機照明系統(tǒng)出發(fā)淺談光學系統(tǒng)設計”,對面向1X nm及其以下工藝節(jié)點芯片制造的浸沒光刻機的照明系統(tǒng)作了概述,重點介紹光束處理技術、光瞳整形技術、光場勻化技術、照明中繼技術和偏振照明技術,以及相關技術原理在其他光學系統(tǒng)中的應用等。對“光刻機概念-光刻機發(fā)展歷程-光刻機制造商-光刻機核心分系統(tǒng)-光刻機光源掩模偏振優(yōu)化”等相關知識作了科普介紹。

曾博士還通過“理論篇”、“實踐篇”等過程,分享了自己從“初入職場”到成為“技術負責人”的歷程,分享了他對科研事業(yè)的執(zhí)著追求與無限熱愛,大家都深受啟發(fā),本次大講堂吸引了我院及產(chǎn)業(yè)化公司近40名科研人員及集萃研究生參加。